BASF anunță construcția unei unități moderne pentru producția de hidroxid de amoniu de puritate electronică (NH₄OH EG) la Ludwigshafen, Germania. Materialul chimic ultrapur este destinat proceselor critice de curățare, gravare și altor etape de precizie din fabricarea semiconductorilor, cu rol în creșterea randamentului și fiabilității producției.
Proiectul vizează consolidarea unui lanț de aprovizionare european robust pentru cipuri avansate, într-un context în care noi facilități de producție sunt în dezvoltare în regiune. Pornirea operațiunilor este planificată pentru 2027.
Cererea în creștere pentru substanțe chimice de înaltă puritate, esențiale în fluxurile de fabricație (de la pregătirea plachetelor până la etape de fotolitografie), este amplificată de parteneriatele industriale și de deschiderea unor noi unități de producție de cipuri în Europa. NH₄OH EG are utilizări largi în băi de curățare și soluții de gravare, contribuind la îndepărtarea particulelor și controlul suprafețelor la scară microscopică.
„Suntem recunoscători și onorați de încrederea pe care o primim din partea clienților noștri, care ne percep ca partener pe termen lung în dezvoltarea lor regională”, a declarat Jens Liebermann, Senior Vice President, Electronic Materials, BASF. „Această investiție ne consolidează capacitățile și reafirmă angajamentul de a susține industria semiconductorilor în Europa”, a adăugat Gops Pillay, President, Global Operating Division, BASF.
Noua unitate va deservi tehnologii de cipuri de generație avansată, cu aplicații în industrii-cheie europene precum auto și inteligență artificială. Investiția este parte a extinderii BASF în lanțul valoric al substanțelor chimice pentru semiconductori, pe baza unor angajamente pe termen lung cu clienții.
BASF furnizează portofolii de materiale de înaltă puritate și formulări specializate utilizate în procese precum curățare, gravare, fotolitografie, depunere metalică și planificare chimico-mecanică, acoperind etape esențiale ale fluxului de fabricație a semiconductorilor.
Comentariul va fi postat dupa aprobare